[컨콜]삼성전자 "설비투자 내 R&D 비중 늘릴 것"

[아시아경제 한예주 기자] 삼성전자가 올해 CAPEX(설비투자) 규모를 전년 수준으로 유지하고 R&D(연구개발) 비중을 늘리겠다고 밝혔다. '메모리 한파'에 따른 시장의 감산 전망에 선을 긋는 것과 동시, 미래 사업 준비를 이어가겠다는 전략이다.

삼성전자는 31일 진행된 4분기 실적 발표 컨퍼런스콜에서 “최근 인플레이션, 금리 인상 등으로 구매 심리가 위축되고, 경기 악화 우려로 기업들도 재무 건전성을 최우선으로 두면서 고객사 재고 조정 이어지고 있다"며 "시황 약세가 당장 실적에는 우호적이지 않지만 미래를 대비하기에 좋은 기회라고 생각한다"고 말했다.

사진=김현민 기자 kimhyun81@

이어 "당사는 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자를 지속해서 필수 클린룸을 확보하고자 한다"며 "결론적으로 CAPEX는 전년과 유사한 수준이 될 것"이라고 덧붙였다.

그러면서 "최고의 품질과 라인 운영 최적화를 위해 생산 라인 유지 보수 강화와 설비 재배치 등을 진행하고 미래 선단 노드로의 전환을 추진 중"이라면서 "공정 기술 경쟁력 강화와 조기 안정화를 위해 엔지니어링 비중 확대 중이며 CAPEX 내에서 R&D 항목 비중도 이전 대비 증가할 것으로 예상된다"고 강조했다.

삼성전자는 미래 수요 대비 및 기술 리더십 지속 강화를 위한 중장기 차원의 투자를 지속할 방침이다.

삼성전자는 "중장기 투자 계획에는 EUV(극자외선) 노광장비 차별화 지속 외에도 올해 하반기 본격화가 예상되는 고성능·고용량 메모리반도체 DDR5와 LPDDR5X 시장 대응을 위한 선단공정 전환이 포함된다"며 "보다 장기적으로는 평택 캠퍼스 P4와 새로운 반도체 전용 연구개발 팹과 차세대 공정 개발 캐파를 포함한 R&D 역량 개발을 위한 인프라 등이 포함된다"고 설명했다.

이어 "파운드리는 '쉘 퍼스트'(Shell First) 전략으로 수요에 신속하고 탄력적으로 대응할 것"이라며 "선단 공정 수요 대응을 위한 미국 테일러 그리고 평택 생산 능력 확대 중심의 투자를 지속할 예정"이라고 부연했다.

한편, 삼성전자는 지난해에 시설투자로 53조1000억원을 집행했고, 이중 반도체에 47조9000억원을 투자했다.