[포토] 특허청, ‘한·중·일 디자인 포럼’ 개최

[아시아경제(대전) 정일웅 기자] 특허청은 16일 서울 한국과학기술회관 SC컨벤션센터에서 ‘한·중·일 디자인 포럼’을 개최했다. 올해로 8회차를 맞이한 이 포럼은 3개국 특허청 전문가가 모여 디자인보호와 이 분야의 주요 현안사항 및 해법을 모색하는 자리로 해마다 마련된다. 포럼은 3개국을 매년 순회하는 형태로 열린다. 특허청 이영대 차장이 포럼에서 인사말을 전하고 있다. 특허청 제공

대전=정일웅 기자 jiw3061@asiae.co.kr