인텔 '무어의 법칙' 깨졌다

반도체 집적회로 성능 개선주기 2년→2.5년

[아시아경제 이지은 기자]반도체 집적회로의 성능이 18개월 마다 2배로 증가한다는 '무어의 법칙'이 깨졌다.

브라이언 크르자니크 인텔 최고경영자(CEO)가 15일(현지시간) 열린 실적발표회에서 향후 생산 계획을 설명하는 과정에서 이 사실이 드러났다. 그는 코드명 '캐논레이크'로 명명된 10나노미터급 칩 양산이 2017년 하반기 이후에나 가능할 것이라고 밝혔다. 무어의 법칙을 지키려면 내년에 10나노미터급 공정을 도입해야 한다. 전작인 14나노미터급 칩은 2014년 하반기 출시됐다.

무어의 법칙 수정 가능성도 대두됐다. 크르자니크 CEO는 "최근의 변화는 무어의 법칙 주기가 2년보다는 2.5년에 가까워지고 있다는 것을 알려준다"고 말했다.

무어의 법칙은 인텔 창업자 고든 무어가 1965년 내놓은 이론이다.

이지은 기자 leezn@asiae.co.kr