SK하이닉스 손윤익 "끊임없는 혁신, 원팀 스피릿 덕분"

손윤익 팀장, IT 분야 대한민국 엔지니어상
D램 개발 HKMG 공정 적용하며 혁신 주도
"기술 깊이만큼 동료와의 협업도 중요하다"

손윤익 SK하이닉스 미래기술연구원 DPERI(DRAM Peripheral·D램 셀 동작 제어와 데이터 읽고 쓰기를 위해 필요한 주변 회로) 조직 팀장이 '대한민국 엔지니어상'을 수상했다.

18일 SK하이닉스에 따르면 손윤익 팀장은 전날 서울 강남구 삼정호텔에서 열린 '2025년 상반기 대한민국 엔지니어상 시상식'에서 수상했다. 과학기술정보통신부와 한국산업기술진흥협회가 수여하는 엔지니어상은 산업 현장에서 탁월한 연구개발(R&D) 성과를 낸 엔지니어에게 수여되며, 우리나라 기술 경쟁력을 높이는 데 기여한 주역들을 조명하고 있다.

손윤익 SK하이닉스 미래기술연구원 DPERI조직 팀장이 17일 서울 강남구 삼정호텔에서 열린 시상식에서 '대한민국 엔지니어상'을 수상한 뒤 동료들과 기념촬영을 하고 있다. SK하이닉스

IT 엔지니어 분야에서 수상한 손 팀장은 SK하이닉스의 차세대 인공지능(AI) 반도체 기술 개발을 이끌어온 주역이다. 고대역폭메모리(HBM)와 모바일용 저전력 D램(LPDDR) 개발을 주도해 오면서 기술 한계에 지속적으로 도전해 온 공로를 인정받은 것이다.

손 팀장은 소자 엔니지어로서 다양한 D램 제품의 Peri(Peripheral) 트랜지스터 개발을 위해 힘써왔으며, 고성능·저전력·고신뢰성을 요구하는 까다로운 조건 속에서도 고객이 체감할 수 있는 수준의 성능 향상을 위한 기술 리더십을 발휘해 온 것으로 평가된다.

손 팀장은 "한계에 부딪힐 때마다 동료들과 머리를 맞대고 해결책을 찾아갔던 순간들이 떠오른다"며 "앞으로도 '원팀 스피릿'으로 국가 산업 발전을 이끌 기술 혁신을 이어가겠다"고 했다.

특히 "HBM과 LPDDR은 단순히 성능만 높인다고 되는 게 아니라, 저전력·신뢰성·양산성까지 동시에 확보해야 했던 어려운 도전이었다"며 "각 조직이 전문 영역에서 최선을 다했고, 서로를 이해하고 협력한 덕분에 지금의 AI 메모리 리더십을 유지할 수 있었다"고 거듭 강조했다.

'대한민국 엔지니어상'을 수상한 손윤익 SK하이닉스 미래기술연구원 DPERI조직 팀장. D램 개발에 HKMG 공정을 적용하는 등 기술 혁신을 이끌어온 성과를 인정받았다. SK하이닉스

손윤익 팀장의 여정에서 가장 상징적인 성과는 D램에 HKMG(High-K Metal Gate) 공정을 성공적으로 적용한 일이다. HKMG 공정은 유전율(K)이 높은 물질을 D램 트랜지스터 내부의 절연막에 사용해 공정 미세화로 인해 발생하는 누설 전류를 막고 정전용량을 개선한 차세대 공정이다. 애초 중앙처리장치(CPU)·애플리케이션 프로세서(AP) 등 로직 반도체에 적용됐던 공정으로, D램 제조에 적용하기엔 제약이 많아 시도되지 않았다. 그러나 손 팀장은 과감히 도전했고 결과적으로 제품의 성능과 전력 효율을 획기적으로 개선하는 데 성공했다.

그는 "D램에 HKMG를 도입한다는 건 단순한 기술 확장이 아닌, 패러다임 전환이었다"며 "셀 트랜지스터에 미치는 영향을 최소화하면서도 HKMG의 단점을 극복해야 했다"고 돌아봤다.

손 팀장은 "엔지니어는 기술을 통해 세상의 문제를 해결하는 사람들"이라며 "여러 제약 속에서도 새로운 가능성을 찾아내고 실현하는 게 본질"이라고 말했다. 후배들을 향한 당부도 잊지 않았다. 그는 "미래 엔지니어들에게 '기술에 대한 믿음'과 '실패를 견디는 끈기'를 당부하고 싶다"며 "자신이 만든 기술이 세상을 바꿀 수 있다는 확신을 갖고 패기를 실천하길 바란다"고 전했다.

SK하이닉스 구성원을 향해서는 "우리는 지금 AI 시대로 전환하는 중대한 시점에 있다"며 "기술은 결국 사람이 만드는 것이며, 구성원 개개인의 열정·집중력·협업이 가장 큰 경쟁력"이라고 역설했다. '원팀' 정신도 거듭 강조했다. 그는 "기술의 깊이만큼 동료와의 신뢰·협업의 깊이도 중요하다"며 "함께 배우고 실패하며 성장하는, 진정한 원팀이 됐으면 좋겠다"고 당부했다.

장희준 기자 junh@asiae.co.kr