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특허심사기간 줄이고 ‘고객맞춤형 심사제’ 도입

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특허청, 지난해 연평균 13.2개월→11.7개월…특허심사하이웨이 대상국가도 14개→21개로 늘려

[아시아경제 왕성상 기자] 정부가 올해 특허심사처리기간을 앞당기고 고객맞춤형 심사제를 들여온다. 특허심사하이웨이(고속도로) 대상국가 수도 지난해 14개에서 21개로 늘리면서 기업들의 외국특허권 받기를 돕는다.


특허청은 3일 특허심사처리기간을 지난해 연평균 13.2개월에서 올해엔 11.7개월로 줄이고 빠른 지식재산권 심사를 원하는 기업들을 대상으로 한 ‘고객맞춤형 심사서비스’에 들어간다고 밝혔다.

특히 기업들이 외국특허권을 빨리 받을 수 있게 지원을 강화하고 창의적 아이디어보호를 위한 심사기준 손질, 특허법 개정 등 선진화된 특허심사정책을 적극 펼친다. 관련내용은 6가지로 요약된다.


◆특허심사처리기간 줄이기, 특허심사품질 ‘쑥’=특허청은 국민들의 창의적 아이디어가 빨리 권리화 될 수 있게 한해 평균 특허심사처리기간을 지난해 13.2개월에서 올해는 11.7개월로 당긴다.

지난해 말 한국지식재산연구원이 분석한 결과 올해 계획대로 심사처리기간을 줄이면 국민 총생산액(GNP)이 1조3433억원 늘고 4347명이 일할 수 있는 자리가 생기는 것으로 점쳐졌다.


중국특허문헌에 대한 검색 강화, 기술 분야별 검색가이드 마련, 심사관 검색경진대회 등 지식재산권의 선행기술조사 강화를 중심으로 한 심사품질도 높인다.


◆모든 심사과정에 대한 고객과 소통하는 포지티브(적극적인) 심사 강화=특허청은 본격적인 특허심사에 앞서 ‘심사관과 출원인의 면담에 따른 예비심사’를 이달부터 어려운 기술 분야 대상으로 한다.


이를 통해 출원인은 심사관에게 기술내용을, 심사관은 출원인에게 거절이유를 자세히 설명해줘 정확한 심사를 꾀하면서 거절사유가 저절로 없어지도록 이끈다.


대리인이 없는 지재권 출원에 대해선 거절이유에 대한 보정방법을 알려주는 등 심사의 모든 과정에 걸쳐 포지티브심사를 활성화한다.


◆신제품 특허·실용신안·상표·디자인출원을 원할 때 일괄심사=신제품에 대한 1인 창조기업, 벤처기업 등의 복수 특허와 실용신안 출원을 신제품 시판에 맞춰 심사해주는 일괄심사제도를 이달부터 본격화한다. 오는 4월부터는 상표, 디자인출원까지 일괄심사범위를 넓힌다.


◆외국특허권 쉽고 빠르게 받도록 특허심사하이웨이 대상국가 확대=우리나라에서 특허권을 받은 출원을 외국에서 빨리 심사받게 해주는 특허심사하이웨이 대상국을 지난해 14개에서 올부터 21개로 늘린다.


특히 유럽특허청(EPO)이 대상국가에 들어가 세계에서 큰 시장의 한 곳인 유럽지역에 나가는 국내 기업들의 빠른 특허권 받기에 도움이 될 전망이다.


◆‘컴퓨터 프로그램’, ‘건축설계 창작물’의 특허보호 강화=‘기록매체에 담긴 컴퓨터프로그램’을 특허권으로서 보호해주는 현행규정에 반해 최근 온라인을 통해 ‘컴퓨터프로그램(스마트폰 앱)’ 자체를 거래하는 시장이 활성화되고 있다.


이런 불일치를 없애도록 ‘특허요건을 갖춘 컴퓨터프로그램’을 특허로 보호받을 수 있게 심사기준을 올 상반기 중 고친다.


공간요소적 특징으로 ▲신규성·진보성의 특허요건 판단이 어려운 건축설계창작물에 대해 특허요건 판단사례 ▲권리범위 해석사례 보강으로 심사기준을 손질 ▲건축설계창작물의 특허판단기준을 명확히 한다.


◆창의적 아이디어 보호를 위한 특허법 고쳐=특허청은 창의적 아이디어의 특허권 받기가 쉽도록 아이디어 설명자료, 외국어로 된 명세서를 내어도 출원일을 인정받을 수 있게 올 상반기 중 특허법을 고친다.


창의적 아이디어를 가진 사람이 특허를 쉽게 받을 수 있게 공지 예외 주장 요건을 낮추며 특허 출원된 아이디어의 추가적 권리화를 위해 분할출원 기회를 늘리도록 고친다.


김영민 특허청장은 “특허심사처리기간 줄이기가 경제 활성화에 보탬이 될 것”이라며 “특허청은 국민의 창의적 아이디어가 강한 지재권으로 빨리 권리화 되고 외국에서도 편하게 특허권을 받을 수 있도록 심사서비스를 강화하겠다”고 말했다.



왕성상 기자 wss4044@asiae.co.kr
<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>

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