테스, 기판 처리 장치 특허권 취득

[아시아경제 지선호 기자] 테스는 3일 기판 처리 장치 관련 특허권을 취득했다고 공시했다.

테스는 서셉터의 승강 이동을 위한 승강 구조와 공정 가스의 배기를 위한 배기 구조가 통합돼, 반응 챔버의 바닥면 중앙 영역에서 반응 가스의 배기가 가능하게 되어 공정 균일도를 향상시킬 수 있다고 설명했다.

회사측은 장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화하겠다고 밝혔다.

지선호 기자 likemore@