[아시아경제 성정은 기자]테스는 반도체 제조 장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법 특허를 취득했다고 10일 공시했다. 회사 측은 이 기술을 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 높일 계획이라고 밝혔다.
성정은 기자 jeun@
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성정은기자
입력2010.12.10 13:46
[아시아경제 성정은 기자]테스는 반도체 제조 장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법 특허를 취득했다고 10일 공시했다. 회사 측은 이 기술을 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 높일 계획이라고 밝혔다.
성정은 기자 jeun@
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