황준호기자
[아시아경제 황준호 기자] 국내 중소기업이 메모리반도체용 핵심 소재의 기술 자립화에 성공했다. 그간 일본 제품에 의존하면서 수출 규제를 우려했던 기업들의 국산 제품 활용이 가능해질 것으로 예상된다.
과학기술정보통신부는 DCT머티리얼과 나노종합연구원이 공동 연구를 통해 현재 일본 등의 수입에 의존 중인 고(高)종횡비 구조의 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재의 기술 자립에 성공했다고 12일 밝혔다.
하드마스크는 반도체 미세회로를 새기는 포토마스크 보조재료다. 반도체에 회로를 세기는데 있어 필수적인 공정재료다.
충북 진천의 DCT머티리얼은 반도체 공정재료를 생산하고 있는 업체로, 반도체소재 생산장비의 노후화로 대기업 납품용 제품 개발에 어려움을 겪었다. 이에 나노종합기술원과의 협력 연구를 통해 대기업의 납품 조건에 맞는 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재를 개발했다.
DCT머티리얼의 소재는 일본 제품보다 내열성, 평탄화 특성이 뛰어나며, 가격경쟁력도 갖췄다. 정부는 일본 등 외국 제품에 의존했던 메모리반도체용 하드마스크 소재의 국산 대체가 가능해질 것으로 전망했다.
DCT 머티리얼 관계자는 "나노종합기술원과의 협력을 통해 세계최고 수준을 뛰어넘는 제품개발에 성공했다. 향후 중소기업 지원 테스트베드가 확충된다면 반도체 소재의 기술자립을 더욱 앞당길 수 있을 것으로 기대한다"라고 밝혔다.
고서곤 과기정통부 기초원천연구정책관은 "반도체 핵심 소재·부품·장비의 기술자립을 지원하기 위해 나노종합기술원과 같은 나노인프라 기관을 적극적으로 활용할 계획"이라며 "향후 12인치 반도체 테스트베드가 성공적으로 구축된다면 국내 반도체 산업경쟁력이 크게 향상될 수 있을 것"이라고 밝혔다.
황준호 기자 rephwang@asiae.co.kr<ⓒ경제를 보는 눈, 세계를 보는 창 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>