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한-중 특허청, 악의적 상표선점 등 방지 ‘선제적 협력’

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[아시아경제(대전) 정일웅 기자] 한국과 중국이 양국 간 악의적 상표선점과 모방상표 등록 방지에 나선다.


특허청은 최근 중국 북경에서 ‘제4차 한-중 상표 분야 청장급 회담’을 갖고 이 같은 내용에 상호 협력키로 했다고 23일 밝혔다.

최동규 특허청장은 회담에서 중국 공상행정관리총국 류준첸 부국장(차관급)을 만나 한글상표, 한류 콘텐츠로 중국 현지에 전파된 한국 상표의 모방(의심) 출원을 심사단계에서 원천적으로 막는 협력체계 구축 방안을 논의·합의했다.


또 모방상표가 심사단계에서 걸러지지 않을 시 이의신청 중 정보공유를 통해 등록을 방지하는 사후적 협력체계 구축을 합의안에 포함시켰다.

이는 등록된 모방상표로 1차 피해를 입고 무단선점된 상표를 무효화하는 데 소요되는 시간, 경제적 2차 피해를 감수해야 하는 국내 기업에 부담을 완화하는 역할을 할 것으로 기대된다.


최근 우리나라 특허청이 조사한 바에 따르면 올해 5월까지 중국 현지에서 타인(기업)에게 선점된 국내 상표는 1000개 이상, 이로 인해 피해사례를 접수한 기업은 600여개로 파악된다.


이러한 실정을 감안, 한·중 상표 당국은 모방상표를 손쉽게 검색하고 이를 상대국에 신속히 통보하는 시스템을 구축하기 위해 협의를 지속할 방침이다.


또 관련 시스템이 구축되기 이전까지 특허청은 모방 상표로 의심되는 상표 리스트를 중국당국에 주기적으로 제공, 국내 기업의 피해규모를 최소화해 나갈 계획이다.


이밖에 양국 특허청은 상표 부문의 심사처리기간 단축과 심사품질 강화방안에 관한 의견을 교환하고 향후 다양한 인적 교류와 정보공유로 상호 협력구도를 강화해 나갈 예정이다.


최동규 특허청장은 “중국과의 상표 분야 협력은 우리 기업의 경쟁력 강화와 해외 진출 확대를 위한 필수요건”이라며 “회담을 통해 얻어진 합의 내용은 그간 답보상태에 머물던 양국 특허청 간의 모방상표 문제를 해결하는 데 주효한 전기를 마련할 것”이라고 강조했다.


그러면서 “회담에서 확인된 중국의 지재권 보호 의지와 상호신뢰를 바탕으로 양국 기업이 안심하고 기업 활동을 할 수 있는 환경을 조성하는 데 주력하겠다”고 말했다.



대전=정일웅 기자 jiw3061@asiae.co.kr
<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>

정일웅 기자 jiw3061@asiae.co.kr
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