에스앤에스텍, 대면적 포토마스크 관련 특허

[아시아경제 김철현 기자]에스앤에스텍은 대면적 포토마스크 블랭크 제조방법 및 이를 이용한 포토마스크에 대한 특허를 취득했다고 17일 공시했다. 회사 측에 따르면 이번 특허 기술은 TFT-LCD 등의 디스플레이 제조용 포토마스크 블랭크에 관한 것이다. 특허 출원국은 대만이다.

김철현 기자 kch@