[아시아경제 김재연 기자] 삼성전자는 24일 지난해 설비 투자로 총 23조8000억원을 썼다며 올해도 지난해와 비슷한 수준의 설비 투자가 예상된다고 밝혔다. 삼성전자는 이날 2013년도 4분기 실적 발표를 통해 이같이 밝혔다. 부문별로는 낸드플래시 공장 건설과 D램·시스템반도체 20나노급 공정전환에 투자한 반도체 부문이 12조6000억원을 집행했다. 디스플레이(DP)는 LCD패널 공장 건설과 유기발광다이오드(OLED) 패널 라인 증설에 5조5000억원을 투자했다. 삼성전자는 "올해 시설투자 계획은 아직 확정되지 않았으나 전년과 유사한 수준의 투자가 예상되고, 사업별로도 전년과 큰 변동이 없을 것으로 예상된다"고 밝혔다. 삼성전자는 "반도체의 경우 메모리 반도체는 첨단공정 전환, 시스템 반도체는 차세대 공정 기술 강화에 집중할 것이며, DP는 OLED 플렉서블 생산능력 증대와 미래 기술 확보 투자에 집중할 예정"이라고 밝혔다. 한편 삼성전자는"2014년 주주환원 정책은 지난해 대비 연간 잉여현금흐름 비중의 적극적 증가를 목표로 종합적으로 검토해 결정할 방침"이라고 밝혔다. 김재연 기자 ukebida@asiae.co.kr<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
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