삼성 반도체의 '타이밍 투자' 20兆+α

4차산업 본격화로 수요 급증 예고
올해 역대 최대 시설 투자 계획

[아시아경제 강희종 기자]삼성전자가 올해 반도체 시설투자(CAPEX)에만 20조원 이상을 투입하기로 했다. 역대 최대 규모다. 대규모 투자를 통해 '초기술 격차'를 유지하겠다는 의도다. 디스플레이 등 다른 시설투자를 합치면 전체 시설투자 규모는 30조원을 넘어선다.

12일 전자업계에 따르면 올해 삼성전자 반도체 시설투자 규모는 20조원을 훌쩍 넘어설 것으로 전망된다. 이는 기존의 사상 최대 규모였던 2015년 14조7000억원을 훌쩍 뛰어넘는 수치다. 반도체와 디스플레이를 포함한 올해 전체 시설투자규모도 지난해 25조5000억원보다 크게 증가한 30조원을 돌파할 전망이다.

삼성전자가 이처럼 대규모 투자를 단행하는 것은 반도체 경쟁력이 '투자 타이밍'에 있다는 판단에서다. 사물인터넷(IoT), 인공지능(AI)을 핵심으로 하는 4차 산업 혁명이 본격화되면서 모바일 기기와α 데이터센터에 필요한 메모리 반도체 수요가 크게 증가하는 상황이다. 이런 가운데 삼성전자는 수요가 급증하고 있는 낸드 플래시 분야에서 적기에 생산량을 확대해 후발 사업자들과의 초격차를 벌이겠다는 전략이다. '반도체 굴기'를 앞세운 중국이 한국을 뒤쫓고 있는 상황도 감안한 것으로 보인다.

올해 삼성전자의 시설투자는 D램보다는 낸드플래시에 집중되고 있다. 삼성전자는 6월말 가동을 앞둔 평택 고덕산업단지 내 18라인의 3차원(3D) 낸드 플래시 생산 규모를 지속적으로 증설할 계획이다. 낸드플래시 생산 시설을 화성에서 평택으로 이전하면서 화성에는 D램 투자가 계획돼 있다. 중국 시안의 3D 낸드플래시 2기 투자도 시작할 계획이다.

증권가에서도 삼성전자의 올해 반도체 시설투자가 20조원을 넘을 것이라는 예측이 우세하다. 이세철 NH투자증권 연구원은 "삼성전자가 올해 사상 최대 영업이익을 기록할 것으로 예상되고 있으며 현금흐름도 양호해 낸드플래시를 중심으로 반도체 분야에서 20조원 이상의 시설투자가 예상된다"고 설명했다. 삼성전자는 올해 1분기에만 반도체 5조원, 디스플레이 4조2000억원을 포함해 총 9조8000원을 투자한 바 있다.

강희종 기자 mindle@asiae.co.kr