[아시아경제 서소정 기자]에스앤에스텍은 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크, 하프톤형 위상반전 포토 마스크 및 제조 방법에 관한 특허권을 취득했다고 31일 공시했다.
서소정 기자 ssj@
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에스앤에스텍, 블랭크 마스크 관련 특허 취득
서소정기자
입력2012.05.31 12:07
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