한예주기자
삼성전자는 올해 전년 대비 약 3조6000억원 증가한 56조7000억원 규모의 시설 투자를 단행할 계획이라고 31일 밝혔다.
사업별로는 반도체(DS) 부문 47조9000억원, 디스플레이(SDC) 부문 5조6000억원 수준이다.
현재 3분기 누계로는 35조8000억원이 집행됐으며 DS 30조3000억원, SDC 3조9000억원 수준이다.
서울 서초구 삼성전자 서초사옥. 사진=강진형 기자aymsdream@
삼성전자는 DS 부문은 고부가가치 제품 대응을 위한 전환투자 및 연구개발(R&D), 후공정 투자에 집중할 계획이며, SDC 부문은 중소형 디스플레이 증설 투자를 단행한다는 방침이다.
회사 관계자는 "메모리는 시황과 연계된 탄력적 설비 투자 기조를 유지하면서 고대역폭메모리(HBM)와 DDR5 등 고부가가치 제품 전환에 중점을 둘 예정"이라며 "전년 수준의 시설 투자가 전망된다"고 설명했다.
이어 "파운드리(반도체 설계전문)는 시황 및 투자 효율성을 고려해 투자 규모 축소가 전망된다"며 "디스플레이는 경쟁력 우위 유지를 위해 중소형 디스플레이 신규 팹과 제조라인 보완에 적극적으로 투자할 계획"이라고 덧붙였다.