[아시아경제 김철현 기자] 테스는 기판 처리장치에 대한 특허를 취득했다고 4일 공시했다. 이는 분사 영역을 통해서만 가스가 분사됨으로써 가스의 소모량을 감소시킬 수 있는 기술이다.김철현 기자 kch@asiae.co.kr<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
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