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신화인터텍, 광학시트 관련 특허권 취득

신화인터텍은 2개의 니딩룰을 포함하는 광학시트제조장치 특허권을 취득했다고 20일 공시했다.

회사측은 "이번 발명의 광학 시트 제조 장치를 사용해 목적하는 광학 필름의 패턴에 따라 몰드 필름을 교체함으로써 패턴의 구현이 용이하다"며 "또, 다단계로 음각 패턴 내에 고분자 수지를 충진해 광학 필름의 패턴을 형성함으로써 완성된 광학 필름의 패턴 내에 기포 함유량을 최소화할 수 있다"고 밝혔다.

박선미 기자 psm82@asiae.co.kr
<ⓒ아시아 대표 석간 '아시아경제' (www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>


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