에스앤에스텍, 블랭크 마스크 관련 특허 취득

[아시아경제 서소정 기자]에스앤에스텍은 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크, 하프톤형 위상반전 포토 마스크 및 제조 방법에 관한 특허권을 취득했다고 31일 공시했다. 서소정 기자 ssj@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>