특허청, 20일 오후 한국지식재산센터 19층 국제회의실…산업계·학계·법조계 전문가들 참석
[아시아경제 왕성상 기자] 특허청은 오는 20일 오후 서울 역삼동 한국지식재산센터 19층 국제회의실에서 ‘영업비밀 보호제도 개선 토론회’를 연다.행사는 영업비밀 보호 강화를 통한 기업의 안전한 경제활동을 돕기 위한 것으로 산업계·학계·법조계 전문가들이 참여한다. 토론회에선 ▲비영리기관의 영업비밀 유출행위에 대한 보호방안 ▲재판상 영업비밀의 누설 방지방안 ▲영업비밀소송에서의 입증부담 완화방안 ▲거래과정에서의 영업비밀 유출에 대한 보호방안 ▲영업비밀 원본증명제도에 대한 법적 근거 등을 토론한다.특허청은 이를 통해 ‘부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률’ 개정안을 만드는 데 참고자료로 쓸 계획이다. 강경호 특허청 산업재산보호팀장은 “최근 기업의 핵심기술 유출에 따른 문제는 우리나라 산업계의 중요 이슈가 되고 있다”면서 “이번 토론회는 영업비밀보호제도 전반을 손질하는 자리가 될 것”이라고 말했다. 영업비밀보호에 관심 있는 산업계·학계·법조계 관계자는 누구나 참석할 수 있다. 더 자세한 내용은 한국지식재산보호협회(www.kipra.or.kr, ☎02-2183-5877)로 물어보면 된다. 왕성상 기자 wss4044@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
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