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[日수출규제 1년, 그 후]EUV용 포토레지스트도 2년내 국산화
최종수정 2020.06.29 15:03기사입력 2020.06.29 13:52

SK머티리얼즈 개발 시작
삼성 등 테스트

[日수출규제 1년, 그 후]EUV용 포토레지스트도 2년내 국산화

[아시아경제 박소연 기자] 일본의 수출 규제 핵심인 극자외선(EUV)용 포토레지스트가 이르면 2년 내 국산화에 성공할 수 있을 전망이다. EUV용 포토레지스트는 반도체 공정에서 빛을 인식하는 감광재로, 지난해 일본이 한국을 화이트리스트(안보상 수출심사 우대국)에서 배제하면서 단행한 폴리이미드, 불화수소, 포토레지스트 수출 규제 품목 중에서도 상용화가 어려운 기술로 꼽혔다.


특히 EUV용 포토레지스트는 삼성전자의 차세대 반도체 공정인 평택 라인에 투입되는 소재라 국산화 시기가 주목된다. 일본의 대한국 수출 규제 1년을 앞두고 국내 대표 기업들이 협력해 소재ㆍ부품ㆍ장비(소부장)산업 첨단 기술 개발에 나서며 국산화 2단계로 진입했다는 평가가 나온다.

29일 반도체업계에 따르면 SK머티리얼즈는 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 생산을 위한 EUV용 포토레지스트 개발을 시작했다. SK머티리얼즈는 2016년 SK그룹에 편입되기 전부터 오랜 기간 경북 영주의 향토 기업이자 삼성전자 협력사로 반도체 소재를 공급해왔다.


삼성전자 및 SK하이닉스는 SK머티리얼즈가 개발한 이 소재 샘플을 반도체 라인 일부에 적용하며 테스트를 진행할 계획이다. SK머티리얼즈가 보내온 샘플을 반복적으로 테스트해 불량률을 낮출 방침이다.

업계에선 EUV용 포토레지스트 개발에서 SK와 삼성의 기술 및 자본이 합쳐지면 당초 국산화 예상 기간인 5년보다 절반 이상 상용화 시기가 앞당겨질 것으로 예상하고 있다. 앞서 SK머티리얼즈는 국내 반도체기업들과 협력해 수출 규제 1년여 만에 초고순도 불화수소 국산화에 성공했다.


SK머티리얼즈는 첨단 소재 국산화와 신사업 분야 개척을 위해 반도체 소재 등 특수가스를 개발하는 국내 강소기업들에도 기술 문호를 개방하고 적극적으로 협력할 예정이다.




박소연 기자 muse@asiae.co.kr
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