정일웅기자
[아시아경제(대전) 정일웅 기자] 특허청은 8일 서울 강남구 역삼동 소재 한국지식재산센터에서 ‘2016년 하반기 특허기술상 시상식’을 개최했다. 시상식은 발명자와 창작자의 사기를 진작, 발명분위기를 범국민적으로 확산시킬 목적으로 마련됐다. 특허청 이영대 차장(왼쪽 첫 번째)과 시상자들이 기념사진을 찍고 있다. 특허청 제공 대전=정일웅 기자 jiw3061@asiae.co.kr<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>정일웅 기자 jiw3061@asiae.co.kr<ⓒ아시아 대표 석간 '아시아경제' (www.newsva.co.kr) 무단전재 배포금지>