[아시아경제 조강욱 기자] 테스는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 3일 공시했다. 회사 측은 "장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화에 활용할 것"이라고 설명했다.조강욱 기자 jomarok@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
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