[아시아경제 오현길 기자]참엔지니어링은 플라즈마를 이용한 기판처리 공정에 있어 이온 에너지 및 플라즈마 밀도가 높은 공진 플라즈마를 이용하는 기판 처리장치에 대한 특허권을 취득했다고 31일 공시했다.회사측은 이 특허를 활용해 반도체 생산 공정 장비의 경쟁력을 강화하겠다고 덧붙였다.오현길 기자 ohk0414@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
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