[아시아경제 배경환 기자] 테스는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 8일 공시했다. 회사 관계자에 따르면 본 특허로 기판 위에 형성된 실리콘 산화막을 매우 빠른 식각 속도를 가지고 식각하는 것이 가능해진다. 배경환 기자 khbae@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
건설부동산부 배경환 기자 khbae@ⓒ 경제를 보는 눈, 세계를 보는 창 아시아경제
무단전재, 복사, 배포 등을 금지합니다.