[아시아경제 박성호 기자]삼성전자가 미국 텍사스주에 위치한 오스틴 반도체공장에 36억달러(한화 약 4조5500억원)를 투자할 계획이다.10일 삼성전자와 블룸버그 등 주요외신에 따르면 삼성전자가 투자할 오스틴 공장은 지난 1998년 3월 200mm웨이퍼로 D램 생산을 시작했고 2007년 6월에는 낸드플래시 공장을 가동했다. 그러나 지난 2009년에는 D램 생산을 중단했고, 현재는 낸드플래시 메모리칩을 생산하고 있다.삼성은 이번 투자로 시스템반도체 생산라인을 건설, 내년 2분기부터 양산을 시작할 계획이다. 또 연구개발(R&D)센터 신축도 계획하고 있다.삼성전자측은 "최근 수요가 커지고 있는 시스템LSI 부문을 강화하기 위한 것"이라고 말했다.한편 이번 오스틴공장 투자금액은 삼성전자가 지난달 17일 경기도 화성캠퍼스(반도체사업장)에서 메모리반도체 16라인 기공식을 한 뒤 반도체 11조원, LCD 5조원 등 전체 시설에 18조원과 R&D에 8조원 등 총 26조원 규모의 올해 투자계획을 발표한 내용에 포함돼 새로운 추가 투자확대건은 아니다.박성호 기자 vicman1203@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>박성호 기자 vicman1203@<ⓒ아시아 대표 석간 '아시아경제' (www.newsva.co.kr) 무단전재 배포금지>
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