[아시아경제 오진희 기자]테스는 반도체 제조장치 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법에 관한 특허를 취득했다고 5일 공시했다. 회사측은 이 방법이 저온공정과 고온공정을 하나의 챔버 내에서 진행할 수 있어 공정효율이 증대된다는 장점이 있다고 전했다.오진희 기자 valere@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
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