[아시아경제 성정은 기자]테스는 반도체 제조 장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법 특허를 취득했다고 10일 공시했다. 회사 측은 이 기술을 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 높일 계획이라고 밝혔다. 성정은 기자 jeun@<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
법조팀 성정은 기자 jeun@ⓒ 경제를 보는 눈, 세계를 보는 창 아시아경제
무단전재, 복사, 배포 등을 금지합니다.