유현석기자
[아시아경제 유현석 기자] 동아화성의 자회사 동아퓨얼셀은 고온고분자연료전지(HT-PEMFC)의 핵심 부품인 연료전지 스택과 시스템 관련한 특허 2건이 등록됐다고 5일 밝혔다.
동아퓨얼셀의 자체기술로 개발된 '고온 고분자 전해질막 연료전지 스택' 기술이 지난달 25일 등록 결정됐다. 에너지기술연구원과 공동으로 출원한 '고분자 연료전지 스택의 예열장치 및 예열방법'은 지난 3월 특허 등록이 결정됐다.
이번 기술을 발명한 동아퓨얼셀의 연구진은 이번에 확보된 특허는 스택의 분리판과 막전극접합체 및 가스켓을 포함하는 복수개의 셀유닛에 대한 설계 및 제작에 대한 원천기술이다.
박달영 대표는 "이번 등록된 기술은 연료전지 시스템에 장착해 장기간의 실증을 통해 문제점을 개선한 기술"이라며 "전 세계적으로 유일하며 HT-PEMFC 스택의 기밀 및 내구성을 획기적으로 개선한 성과"라고 말했다.
동아퓨얼셀은 특허기술을 활용해 중국 시장 진출을 위해 중국의 Blest-KunA와 실무 협의를 진행하고 있다. Best-KunAi는 HT-PEMFC의 핵심 요소기술인 Membrane을 독일의 BASF사로부터 기술이전 받아 중국 내에서의 사업을 추진하고 있다.
동아퓨얼셀의 관계자는 Blest-KunAi사의 MEA를 공급받아 동아퓨얼셀에서 HT-PEMFC 스택을 제작하여 중국 시장에 수출할 계획이라고 밝혔다.
유현석 기자 guspower@asiae.co.kr<ⓒ경제를 보는 눈, 세계를 보는 창 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>