김평화기자
이재용 삼성전자 회장이 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 동행을 마치고 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국했다.
이 회장은 15일 오전 7시3분 서울김포비즈니스항공센터(SGBAC)에 도착해 취재진과 만나 네덜란드 출장 성과에 대해 "반도체가 거의 90%였다"고 밝혔다. 이 회장은 윤 대통령 일정에 맞춰 11일 네덜란드로 떠난 뒤 반도체 장비업체 ASML을 방문하는 등 관련 일정을 마치고 이날 귀국했다.
이 회장은 입국장을 나오는 길에 마주한 취재진을 상대로 "아침부터 일찍 나오셨다"며 인사를 건넸다. 새벽에 도착한 탓에 "잠이 막 깼다"며 다소 피곤한 모습을 보이기도 했지만 밝은 표정을 유지했다. 이번 출장과 관련해 만족감을 나타낸 것으로 보인다.
또 이 회장은 이번 출장 성과와 관련한 취재진 질문에 함께 도착한 경계현 삼성전자 DS부문장(사장) 어깨를 몇 차례 두드리며 "경 사장이 설명해 드릴 것"이라며 신뢰감을 나타내는 듯했다.
이 회장이 입국장을 떠난 뒤 경 사장은 이번 출장에서 네덜란드 반도체 장비사인 ASML과 협력 관계를 다진 것과 관련해 성과가 크다며 기대감을 밝혔다.
경 사장은 "극자외선(EUV) 장비가 (반도체 사업에 있어) 가장 중요한 장비 중 하나"라며 "반도체 공급망 입장에서 굉장히 튼튼한 우군을 확보했다"고 말했다.
삼성전자는 네덜란드에서 ASML과 만나 1조원을 투자, 국내에 R&D센터를 공동 운영하기로 협약을 맺었다. ASML이 해외에 공동 R&D센터를 두는 것은 첫 사례다 보니 반도체 업계 안팎의 주목을 받았다.
경 사장은 "이번에 협약식 하면서 동탄에다가 공동 연구소를 짓게 됐다"며 "거기서 하이 NA EUV 들여와서 ASML 엔지니어와 삼성 엔지니어들이 같이 기술을 개발하기로 했다"고 말했다.
또 이를 통해 "하이 NA EUV에 대한 기술적인 우선권을 삼성이 갖게 될 것"이라며 "장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 덧붙였다.
ASML과의 협력을 통해 경쟁사보다 장비를 더 빨리 들여올 수 있게 되냐는 취재진 질문에는 "장비를 빨리 들여온다는 관점보단 ASML 엔지니어와 삼성 엔지니어가 같이 공동 연구를 진행, 삼성이 하이 NA EUV를 더 잘 쓸 수 있는 협력 관계를 맺는 게 더 중요하다고 본다"고 설명했다.
한편 삼성전자는 14일 전사와 모바일경험(MX)사업부를 시작으로 글로벌 전략회의를 시작했다. 반도체 사업을 하는 디바이스솔루션(DS)부문 회의는 19일 예정돼 있다.
경 사장은 글로벌 전략회의와 관련해 보고 받은 내용이 있냐는 취재진 질문에 "다음 주 화요일에 한다"며 "그건 가봐야 한다"고 말을 아꼈다.