박형수기자
반도체 장비 전문기업 예스티는 경쟁사가 제기한 고압 어닐링 장비 관련 특허분쟁에 적극 대응하겠다고 8일 밝혔다. 최근 국내 한 반도체 장비기업은 예스티가 개발 중인 고압 어닐링 장비가 자사 특허를 침해했다며 특허소송을 제기했다.
예스티 관계자는 "고압 어닐링 장비 개발단계부터 분쟁을 예상하고 특허와 관련해 다수의 특허법인 및 법무법인과 다각적인 기술적·법률적 검토를 마친 상태"라고 말했다. 이어 "경쟁사 특허침해 주장은 근거가 없기 때문에 이번 특허소송에 적극적으로 대응하겠다"고 덧붙였다.
예스티는 자체 고온·고압 제어기술을 이용해 2021년부터 고압 어닐링 장비를 개발하기 시작했다. 예스티는 개발과정에서 압력 챔버에 관한 특허 등 여러 건의 특허를 출원했다. 해당 특허는 고압 어닐링 장비의 핵심기술로 진입장벽 역할을 할 것으로 기대된다. 지난 4월에는 차세대 고압 어닐링 장비 개발 국책과제에 단독 선정돼 관련 기술의 고도화를 추진하고 있다.
예스티는 최근 반도체 기업과 고압 어닐링 장비 상용화를 위한 테스트를 마쳤다. 현재 양산 테스트를 위한 준비절차에 착수했다. 또 다른 글로벌 반도체 대기업과도 고압 어닐링 장비에 대한 공정 테스트를 진행하고 있어 상용화에 속도가 붙을 것으로 전망된다.
고압 어닐링 장비는 반도체의 핵심공정 중 하나인 어닐링 공정에 필요한 장비다. 어닐링 공정은 반도체의 Si(실리콘옥사이드) 표면 결함을 고압의 수소·중수소로 치환해 신뢰성(Reliability)을 높인다. 반도체는 어닐링 공정을 통해 구동 전류 및 집적회로 성능이 높아진다.
어닐링 장비는 글로벌 반도체기업들이 정보처리 속도와 비용 절감을 위해 10nm 이하의 초미세공정을 확대하면서 시장의 주목을 받고 있다.