국내 연구진, 저온에서 기판에 직접 그래핀 합성 성공

[아시아경제 김수진 기자]국내 연구진이 저온에서 그래핀을 기판에 직접 합성하는 신기술을 개발했다.

교육과학기술부는 1일 권순용 울산과기대(UNIST) 교수가 주도한 연구팀이 상온에 가까운 저온에서 원하는 기판에 그래핀을 직접 합성하는 기술 개발에 성공, '네이처(Nature)' 자매지인 '네이처 커뮤니케이션스(Nature Communications)'지에 지난 24일자로 논문을 게재했다고 밝혔다.

그래핀은 흑연 표면층을 나노 한 겹 두께로 떼어낸 탄소나노물질로 자유자재로 휘면서 전기전도성이 높아 '꿈의 신소재'로 불린다.

2009년 화학기상증착법(CVD)로 금속기판 위에 센티미텉 크기의 그래핀을 합성할 수 있다는 사실이 실험적으로 증명됐지만, CVD방식은 1000도의 고온에서 금속기판 위에 그래핀을 합성한 후 원하는 기판으로 전사하는 복잡한 공정이 필요했다.

반면 권 교수팀은 탄소원자가 상온에 가까운 저온 환경에서 금속 표면 위에 자발 확산되고 벌집 모양의 원자간 결합을 형성하는 현상을 이용, 어떠한 기판에도 그래핀을 직접 만들 수 있는 신기술을 개발했다.

권순용 교수는 “이번 연구는 비교적 간단한 장비와 방법으로 저온에서 그래핀을 원하는 기판에 직접 형성하는 기술을 개발한 것으로, 차세대 그래핀 산업에 응용되는 핵심 기술이 될 것으로 기대된다"고 말했다.

김수진 기자 sjkim@