유현석기자
[아시아경제 유현석 기자] 특수지 전문기업 국일제지는 자회사 국일그래핀이 충남대 윤순길 교수팀과 공동연구로 150℃이하 저온에서 무전사 직접 CVD 방식을 통해 8인치 대면적 실리콘 웨이퍼 위에 단층(monolayer) 그래핀 합성에 성공했다고 29일 밝혔다.
회사 관계자는 “8인치 플라즈마CVD 장치에 티탄을 버퍼층으로 한 저온 무전사 방식으로 낮은 온도에서 그래핀을 합성한 것”이라며 “분석장비를 통해 8인치 실리콘 웨이퍼에 단층 그래핀이 성공적으로 증착된 것을 확인했다”고 말했다.
국일그래핀은 지난해 11월 무전사 CVD 방식으로 4인치 실리콘 웨이퍼 및 플렉시블 PET 필름 위에 단층 그래핀 합성 기술을 발표한지 6개월만에 진일보한 성과를 이뤘다.
국일그래핀이 발명한 신소재 그래핀 제조기술은 지난 4월 미국 특허 등록을 완료한 바 있다. 이 기술은 전사 과정을 거치지 않는 무전사 방식으로 그래핀 박막을 형성해 고품질 그래핀을 만드는 방법이다. 투명 전극, 반도체 디바이스 등의 전극 소자에 적용돼 접는 유기발광다이오드(OLED), 유연 터치패널, 태양전지 전극 등에 사용될 수 있다는 것이 회사 측의 설명이다.
회사 관계자는 “이번 8인치 실리콘 웨이퍼 그래핀 합성 성공으로 인해 앞으로 웨어러블, 태양전지, 2차전지, 배터리 등 다양한 분야의 소재로 활용도가 더 넓어질 것”이라며 “더불어 PET 등 플레시블 소재에서도 8인치 이상 대면적으로 박막 그래핀 합성 진행중”이라고 밝혔다. 이어 “동일한 공법의 양산화 준비를 위한 생산공정에 대해서도 다각도로 검토 중”이라고 덧붙였다.
유현석 기자 guspower@asiae.co.kr<ⓒ경제를 보는 눈, 세계를 보는 창 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>